Physikalisches Institut

Mikro- und Nanostrukturierung

Für unsere Forschungsarbeiten ist die Mikro- und Nanostrukturierung von Dünnfilmen und Einkristallen unabdingbar. Hierbei kommen dieselben Techniken zum Einsatz, wie sie im großen Maßstab in der Halbleiterindustrie angewandt werden.

Je nach Strukturgrößen kommen unterschiedliche Methoden zum Einsatz. Für Dimensionen auf der Mikrometerskala und darüber wird meist optische Lithographie angewandt, während Submikrometer- und Nanostrukturen den Einsatz von Elektronenstrahllithographie erfordern.

Zunächst wird die gewünschte Struktur von einer Maske auf einen Lack übertragen. Anschließend dienen die Lack-Muster zur Strukturierung der eigentlichen Proben. Hierbei werden entweder die Lift-Off Technik oder verschiedene Ätzmethoden angewandt.

Belichtungstechniken:

Optische Lithographie

Abbildung 1. Gelbraum im Reinraum (VG) mit Maskaligner und Lackschleuder zum Aufbringen von Fotolack.

Elektronenstrahl-Lithographie

Abbildung2: Elektronenstrahl-Lithographie zur Herstellung von kleinen Löchern in supraleitenden Dünnfilmen.

Ätztechniken: