Praktikum in Nanotechnologie und Biophysik
Atomic Force Microscopy | |
Mikromechanischer Balken mit der Tast-Spitze | |
| Das Rasterkraft-Mikroskop dient zur Analyse von Probenoberflächen. Dabei wird ein mikromechanischer Balken (Cantilever) mit einer feinen Spitze über die zu untersuchende Oberfläche gerastert. Aufgrund von molekularen Wechselwirkungen zwischen der Cantilever-Spitze und den Oberflächenmolekülen der Probe wird attraktive (van-der-Waals) oder repulsive Kraft auf den Cantilever ausgeübt, so dass dieser sich verbiegt. Da die Stärke der Auslenkung des Cantilevers, d.h. die Verbiegung, vom Abstand Spitze-Probe abhängt, kann Information über die Topographie der Probe gewonnen werden, wenn die Auslenkung beim Rastern detektiert wird. Zur Detektion der Cantilever-Auslenkung wird im Praktikum das Lichtzeigerprinzip eingesetzt: Ein fokussierter Laserstrahl wird vom Cantilever reflektiert und von einer positionsempfindlichen Photodiode detektiert. Eine Verbiegung des Cantilevers führt dann zu einer Veränderung des Photostroms in der Diode. | |
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Scanning Ion Conductance Microscopy | |
SICM Setup | Instruction Manual |
| Das Rasterionenleitfähigkeitsmikroskop (englisch: scanning ion conductance microscope, SICM) ist eine neuartige Mikroskopiemethode, die als Messsonde eine elektrolytgefüllte Nanopipette mit einem Öffnungsdurchmesser von typischerweise 100 nm verwendet, um Probenoberflächen zu untersuchen (siehe Abbildung). Als Regelsignal dient dabei der Ionenstrom durch die Nanopipette, der durch Anlegen einer externen Spannung zwischen einer Elektrode innerhalb und einer Referenzelektrode außerhalb Inneren der Nanopipette fließt. Die rauscharme Messung des Ionenstroms ist dabei eine der großen experimentellen Herausforderungen der Methode. Da der Strom bereits abfällt, wenn die Nanopipette noch circa 100 nm von der Probe entfernt ist, lässt sich die Probenoberfläche abtasten, ohne dass eine direkte mechanische Kraft auf sie wirkt. Dadurch erlaubt das SICM die Abbildung von sehr empfindlichen Proben mit Auflösung im Sub-Mikrometer-Bereich und hat daher breite Anwendung in der biophysikalische Forschung gefunden. Typische Anwendungen des SICM sind beispielsweise die Untersuchung und Charakterisierung von lebenden Zellen. Inhalt des Praktikumsversuchs sind verschiede experimentelle Aspekte der Rasterionenleitfähigkeitsmikroskopie wie Herstellung, Charakterisierung und Handling von Nanopipetten, Grundlagen des Abbildungsprozesses und Anwendung an verschiedenen Proben bis hin zu lebenden Zellen. | |
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Indenter
Scanning Electron Microscopy & EDX | |
REM-Bild einer Drosophila-Fliege | |
Das Rasterelektronenmikroskop (REM) ist ein wichtiges Gerät zur Oberflächenstrukturanalyse massiver Proben, das in der Forschung und Entwicklung in Bereichen wie der Halbleiterphysik, der Nanotechnologie bis hin zur Biologie weit verbreitet ist. Bei dieser Mikroskopiemethode wird ein sehr fein gebündelter Elektronenstrahl zeilenweise über die Objektoberfläche geführt. Die dabei durch die Primärelektronen im Objekt erzeugten Wechselwirkungsprodukte (Sekundärelektronen, Röntgenstrahlen, etc.) werden erfasst und zur Bilddarstellung verwendet. Mit dem REM können Strukturen mit einem Auflösungsvermögen von nur wenigen Nanometern mit einer gegenüber dem Lichtmikroskop 1000 mal größeren Schärfentiefe untersucht werden. Im Verlauf des Praktikums werden von den Teilnehmern eine Reihe von Proben (u.a. auch biologische Objekte) untersucht, um einerseits mit der Funktionweise des REMs vertraut zu werden und andererseits die Bildentstehung im REM zu verstehen. An Hand der untersuchten Proben werden u.a. die unterschiedlichen Kontrastmechanismen sowie die verschiedenen Wechselwirkungen der Elektronen mit dem Objekt diskutiert und auch einige Effekte auf der Probe beim Beschuss mit Elektronen demonstriert. Darüber hinaus wird die energiedispersive Röntgenanalyse (EDX) als Methode zur qualitativen und quantitativen Materialanalyse besprochen und angewendet.
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Transmission Electron Microscopy | |
TEM-Abbildung von MgO-Kristallen |
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Das Transmissionselektronenmikroskop (TEM ) wird zur Beobachtung kleiner Strukturen mit der Dimension von einigen µm bis hin zu 0,1 nm eingesetzt. Es ist vom Prinzip her dem Lichtmikroskop sehr ähnlich. Trotz der relativ grossen Linsenfehler, kann mit Hilfe der Elektronenmikroskopie der atomare Aufbau von Kristallen abgebildet werden. Zum Zwecke von Strukturuntersuchungen kann ein TEM auch im Beugungsmodus betrieben werden. Im Praktikum wollen wir folgende Punkte behandeln:
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2D materials - Preparation and optical characterization
Infrared Spectroscopy | |
Aufbau des Michelson-Interferometers
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Ziel des Versuches ist es, Sie mit einem modernen Verfahren der Infrarotspektroskopie vertraut zu machen. Sie sollen mit Hilfe der Fourier-Transformation Infrarotspektroskopie die Sekundaerssstruktur von Proteinen untersuchen. Dabei lernen Sie auch wesentliche Schritte zur Praeparation von biologischen Proben kennen. Leitfaden zur Vorbereitung: | |
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Thin Films | |
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| Dünne Schichten spielen in vielen Bereichen des alltäglichen und des wissenschaftlichen Lebens eine wichtige Rolle. Man findet sie in optischen Anwendungen bei Kameras und Objektiven, als Filter, Spiegel oder Vergütungsschichten, ebenso bei Brillengläsern, Lampen und Scheinwerfern. Andere Einsatzgebiete sind die Elektronik und Elektrotechnik mit Kondensatorfilmen oder dünnen Leiterbahnen. In der Elektronenmikroskopie müssen nichtleitende, z.B. organische, Objekte zur Beobachtung oft mit einer dünnen Schicht metallisiert werden. Nicht zuletzt findet man dünne metallische Beschichtungen als Dekorations-, Funktions- und Schutzschichten auf Kunststoffen, Metallen, Gläsern und Keramik, bei Schmuck, Verpackungsmaterialien und Autoteilen. Im Zusammenhang mit dem Praktikumsversuch werden verschiedene Anwendungsbereiche dünner Schichten besprochen. Desweiteren werden Herstellungsverfahren, Grundlagen der Vakuumtechnologie, die wichtigsten Pumpenarten sowie Methoden zur Schichtdicken- und Druckmessung behandelt. Voraussetzungen für den Praktikumsnachmittag sind Kenntnisse der Optik, insbesondere der Zwei-und Vielstrahlinterferenz, sowie die Fresnelschen Formeln für Reflexion und Transmission an optischen Grenzflächen. Diese werden am Beispiel von Vergütungsschichten, Spiegeln und Interferenzfiltern diskutiert. Es gibt verschiedene Möglichkeiten, dünne Schichten auf ein Substrat aufzubringen. Im Praktikum wird Elektronenstrahlverdampfung verwendet. Das Verdampfen erfolgt unter Vakuum in einer Aufdampfanlage, da eine grosse mittlere freie Weglänge ebenso wesentlich ist wie die Abwesenheit von verunreinigendem Restgas. Im Praktikum wird bei Drücken von wenigen 10-6 mbar bis 10-5 mbar aufgedampft. Für industrielle Anwendungen wird meist bei geringeren Drücken gearbeitet. Zum Evakuieren des Rezipienten werden Pumpensysteme benötigt. Es gibt eine grosse Vielzahl unterschiedlicher Pumpen, wobei die ersten Vorstösse in den Hochvakuumbereich (p<10-3 mbar) erst vor relativ kurzer Zeit im 20. Jahrhundert stattfanden. Im Praktikum werden Drehschieber- und Öldiffusionspumpe als Vor- und Hochvakuumspumpe verwendet. Am Praktikumsnachmittag wird im Labor ein Interferenzfilter hergestellt. Das Filter besteht aus einer Aluminiumoxid-Schicht, die sich zwischen zwei stark reflektierenden Silberschichten befindet. Als Substrat wird Glas verwendet. Einfallendes Licht wird im Filter hin- und herreflektiert, es kommt zu Vielstrahlinterferenz. Dadurch ist das Filter im optischen Bereich nur für eine definierte Wellenlänge durchlässig und man erhält ein Farbfilter. Die gewünschte Wellenlänge wird vor dem Aufdampfen von der Praktikumsgruppe festgelegt und über die Dicke der Aluminiumoxid-Schicht eingestellt. Zum Abschluss wird mit einem Spektralphotometer die Kennlinie des Interferenzfilters ausgemessen. | |
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Optical Lithography | |
Fresnel-diffraction (left) for a narrow, rectangular strip (proximity exposure), (right) for a wide, rectangular strip (proximity exposure, partially developed). | |
Only the continuous development of lithography technology has created the conditions for semiconductor manufacturers to produce ever more powerful and cheaper chips in large quantities. The current state of lithography technology is laser-based technologies with a wavelength of 248 nanometers (nm) and above all 193 nm, which currently allow the imaging of structures with 65 nm. The introduction of phase masks and immersion techniques for structures down to 32 nm has just begun. How even smaller structures can be produced industrially in the future is the subject of current research. In the practical course, all the essential steps of optical lithography are carried out in order to produce structures in a photoresist and then evaluate them. The focus is on the effect of different exposure times and exposure methods on the exposed structures. Particular attention is paid to the Fresnel diffraction that occurs during proximity exposure (see images). The distance between the intensity maxima caused by Fresnel diffraction can be used to determine the distance between the mask and the photoresist-coated substrate. Translated with DeepL.com (free version) | |
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Solar Cell | |
Aufbau der im Praktikum hergestellten Solarzellen | |
| Bei diesem Versuch werden nach einem einfachen Prinzip aus Si–Wafern Solarzellen hergestellt. Diese werden anschließend charakterisiert und mit einer industriell hergestellten Zelle verglichen. Ziel des Versuchs ist es, den Aufbau und die Funktionsweise einer Solarzelle kennenzulernen, wofür zunächst das Verständnis von grundlegenden Eigenschaften von Halbleitern wie z.B. Bandstruktur und Leitungsmechanismen notwendig ist. Für den zur Herstellung wichtigen Schritt des Dotierens werden ausserdem die Grundlagen der Diffusion behandelt. Bei der Kontaktierung wird die Problematik des Metall–Halbleiter–Übergangs diskutiert. Die Bauelemente werden unter Anleitung von den Praktikanten selbständig hergestellt; dabei werden einige in der Halbleitertechnologie häufig angewandte Arbeitstechniken eingesetzt. | |
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Quanten-Hall-Effect | |
Beobachtung des Quanten-Hall-Effekts | Praktikumsanleitung (ohne Quellen) Quelle 2 ( siehe Bibliothek ) |
Die klassische Hall-Messung ist eine Standardmethode zur Charakterisierung eines zweidimensionalen Elektronensystems. Ihren Namen erhielt sie von E.H. Hall, der im Jahre 1879 den Hall-Effekt entdeckt hatte. Im Gegensatz zum klassischen Hall Effekt, bei dem der Hallwiderstand an den Rändern der Probe linear mit dem Magnetfeld ansteigt, beobachtet man beim Quanten Hall Effekt einen stufenförmigen Anstieg. Die Messungen werden bei tiefen Temperaturen und starken Magnetfeldern durchgeführt, damit die Zustandsdichte im zweidimensionalen Elektronengas quantisiert ist (Landauniveaus). Da sich damit das Verhältnis zweier Naturkonstanten sehr genau bestimmen lässt, ist der Quanten- Hall-Effekt sehr wichtig für die Messtechnologie. K. von Klitzing erhielt für seine 1980 gemachte Entdeckung fünf Jahre später den Nobelpreis (http://www.nobel.se/physics/laureates/1985/press.html). Literatur
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Darkfield Scattering at Nanoparticles | |
Dunkelfeld-Abbildung von Gold-Nanokugeln | |
| In diesem Versuch werden Proben mit Gold-Kolloidpartikeln verschiedener Durchmesser im Reinraum präpariert. Diese Proben sowie existierende nanostrukturierte Proben werden in einem inversen Dunkelfeld-Mikroskop untersucht. Hier wird die Probe durch einen Dunkelfeld-Kondensor unter einem schrägen Winkel beleuchtet. Das ungestreute Licht wird nicht vom Objektiv erfasst, nur gestreutes Licht trägt zum Bildsignal bei. Nanostrukturen aus Edelmetall (plasmonische Nanostrukturen) haben einen hohen Streuquerschnitt, da das einfallende Licht mit der freien Elektronendichte des Metalls in Wechselwirkung tritt. So können sehr kleine Nanostrukturen (bis unter 100 nm) noch mit hoher Intensität beobachtet werden. Die Plasmonen-Resonanzfrequenz und damit die beobachtete Farbe hängen stark von der Größe, Form und dielektrischen Umgebung der Nanopartikel ab. Durch Variation des Durchmessers, durch Änderung des Brechungsindexes der Umgebung und durch Kopplungseffekte zwischen mehreren Partikeln wird der Farbeindruck verändert. Zum Abschluss werden Simulationen zur Mie-Streuung an Goldkugeln durchgeführt und mit den beobachteten Daten in Beziehung gesetzt. | |
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Dynamic Light Scattering (DLS) | |
 | Instructions (english) |
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Protein Crystallization | |
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