Dünnfilm- und Oberflächenanalyse

In der Dünnfilm- und Oberflächenanalyse bietet LISA⁺ verschiedene Möglichkeiten zur Oberflächenabbildung, Schichtdickenkontrolle, sowie der Bestimmung der Topographie. Zudem können dünne Schichten auf ihre Zusammensetzung, Element-Verteilung sowie chemische Bindungen hin analysiert werden. Darüber hinaus steht uns Equipment zur elektrischen Charakterisierung zur Verfügung.

Zu unseren abbildenden Methoden gehören die

Die Topographie- und Schichtdickenmessung erfolgt mittels

Für die Elementanalyse kann von uns im wesentlichen durchgeführt werden mittels

Augerelektronen-Spektroskopie,
energiedispersive Röntgenspektroskopie,
Photoelektronen-Spektroskpie,
Fourier-Transform Infrarot Spektroskopie,
UV/Vis-Fluoreszenz- & Transmissions-Spektroskopie,
Raman-Spektroskopie,
Massenspektrometrie mit Atmosphärenprobenkopf, und
Gas Chromatographie-Massenspektrometrie (GC/MS) Kopplung.

Die Struktur- und Phasenanalyse erfolgt haupsächlich über

4-Kreis Röntgen-Diffraktometer (XRD),
Spektroskopische Ellipsometrie,
sowie Raster-Tunnel-Mikroskopie
und Kontaktwinkelmessungen.

Um eine elektrische Charaktiersierung durchzuführen bietet LISA⁺ diverses Equipment zur elektrischen Kontaktierung:

FIB/HIM Mikromanipulatoren,
4-Spitzen Messplatz,
Drahtbonder, und
Spaltschweißgerät.