Die belichteten und entwickelten Substrate können anschließend entweder beschichtet werden (siehe Dünnfilmdepoistion) oder mit den folgenden Technologien geätzt werden:
Zusätzlich können auch Strukturen aus Platin, Wolfram oder Siliziumdioxid mit einer Auflösung von bis zu wenigen Nanometern direkt auf Substrate geschrieben werden mittels
