Mikro- und Nanostrukturierung

LISA⁺ verfügt über ein umfangreiches Equipment zur Mikro- und Nanostrukturierung in den Bereichen:

• optischen Lithographie,
• Nanoimprint-Lithographie,
• und Elektronenstrahl-Lithographie.

Die belichteten und entwickelten Substrate können anschließend entweder beschichtet werden (siehe Dünnfilmdepoistion) oder mit den folgenden Technologien geätzt werden:

• isotropes und anisotropes nasschemisches Ätzen,
• isotropes und anisotropes reaktives Ionenätzen,
• flächiges Argon-Ionenstrahlätzen, oder
• fokusierte Ionenstrahlen (Helium, Neon und Gallium).

Zusätzlich können auch Strukturen aus Platin, Wolfram oder Siliziumdioxid mit einer Auflösung von bis zu wenigen Nanometern direkt auf Substrate geschrieben werden mittels

• elektronen- oder ionenstrahlinduzierter Deposition.