Die Ellipsometrie ist ein optisches Verfahren zur simultanen und zerstörungsfreien Bestimmung der physikalischen Schichtdicke und der Dispersion dünner Schichten. Ebenso sind Untersuchungen der Schichten bei Wechselwirkung mit Analyten z.B. durch Quellung von Polymeren durch Lösungsmitteleinfluss möglich.
Prinzip der Methode
Die Ellipsometrie ist ein Messverfahren, bei dem die änderung des Polarisationszustandes von Licht bei Reflexion an einer Oberfläche oder an einem Schichtsystem gemessen wird. Der Polarisationszustand des reflektierten Lichts wird elliptisch bestimmt.