Mikro- und Nanostrukturierung
LISA+ verfügt über ein umfangreiches Equipment zur Mikro- und Nanostrukturierung in den Bereichen:
Die belichteten und entwickelten Substrate können anschließend entweder beschichtet werden (siehe Dünnfilmdepoistion) oder mit den folgenden Technologien geätzt werden:
- isotropes und anisotropes nasschemisches Ätzen,
- isotropes und anisotropes reaktives Ionenätzen,
- flächiges Argon-Ionenstrahlätzen, oder
- fokusierte Ionenstrahlen (Helium, Neon und Gallium).
Zusätzlich können auch Strukturen aus Platin, Wolfram oder Siliziumdioxid mit einer Auflösung von bis zu wenigen Nanometern direkt auf Substrate geschrieben werden mittels